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c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 245,092 | interleave Reed-Solomon code）による誤り訂正方式により復号化され、且つ１４ビットのデータから８ビットのデータに復調されて、メモリコントローラ９の制御のもとでバッファメモリ１０に格納される。 interleave Reed-Solomon code) by being decoded by error correction method, and demodulated and the 14-bit data to 8-bit data, is stored in the buffer memory 10 under the control of the memory controller 9. その際の再... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 245,092 | ０へのデータ蓄積量は最小になるようにコントロールされる。 Data storage amount to 0 is controlled so as to minimize. 記録がスタートされると、メモリコントローラ９ When the recording is started, the memory controller 9
は、まず音声圧縮部１７からのデータを０．３Ｍｂ／ｓ The data from the voice compression section 17 First 0.3Mb / s
の転送速度でメモリ１０に連続的に蓄積し始める。 Starts continuously stored in the memory 1... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 245,092 | 【００２７】ここまでは、通常の再生モードと同じであるが、編集モードでは、メモリ１０から音声伸長部１２ [0027] Up to this point, is the same as the normal playback mode, In edit mode, the audio decompression unit 12 from the memory 10
への再生データの転送開始後、更に音声伸長部１２及びＡ／Ｄ変換器１４又は遅延補正回路１６での処理による遅延を補正するため、時間Ｔが経過した時点（ｂ点）から（Ｓ７）、音声圧縮部１７からの記録すべきデータを、メモリ１０の時間Ｔ前に音声伸長部１２へ転送した再生データと同一アドレス位置... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 245,092 | ＲR は、所定値Ｃを下回る（Ｓ１６，Ｓ１７，Ｓ２ RR is below the predetermined value C (S16, S17, S2
４）。 4). このため、記録終了後、再生すべき位置へサーチを行い（Ｓ１８，Ｓ１９，Ｓ２０）、再生動作に移る（Ｓ２１）。 Therefore, after the recording is completed, it performs a search to be reproduced position (S18, S19, S20), shifts to the reproducing operation (S21). そして、ＰW −ＲR が所定値Ｂに達すると（Ｓ１６，Ｓ２４）... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 260,901 | 以下に図１〜図２４を参照して実施の形態１のシステム構成設計装置１を説明する。 Referring to FIGS 24 illustrating a system configuration design system 1 of the first embodiment below. なお、以下に登場する「Ｅｔｈｅｒｎｅｔ」は登録商標である。 It should be noted that "Ethernet" that appears in the following is a registered trademark.
システム構成設計装置１は、それまで未サポートであったシリーズの製品またはネットワークの構成を設計するための新規... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 260,901 | 本実施の形態１では、構成エディタ２〜４に配置できる機器、ＰＬＣユニット、オプションユニット、ネットワーク、および機器アイコンを総称してユニットと呼称する。 In the first embodiment, the device can be placed in the configuration editor 2 to 4, PLC unit, optional units, the network, and are collectively device icon is referred to as unit. また、構成エディタ２〜４に配置されたユニットをオブジェクトと呼ぶ。 Also referred to units arr... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 260,901 | （システム構成管理部１０、接続関係情報データベース１１） (System configuration management unit 10, the connection relationship information database 11)
システム構成管理部１０は、接続関係情報データベース１１を管理する。 System configuration management unit 10 manages the connection relationship information database 11. 接続関係情報データベース１１は、どの機器／ＰＬＣユニット／オプションユニットとどの機器／ＰＬＣユニット／オプションユニット... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 260,901 | 図３は、ＰＬＣ−ＡタイプのＰＬＣ３１、４１と、ＰＬＣ−ＢタイプのＰＬＣ５１とがＥｔｈｅｒｎｅｔ３０で接続されている現実の制御システムを示す。 Figure 3 shows a PLC31,41 of PLC-A type, the actual control system of the PLC51 of PLC-B type are connected in Ethernet30. 図３において、ＰＬＣ＃γ５１は、ＰＬＣ−Ｂタイプであり、電源内蔵ＣＰＵユニット５２、Ｅｔｈｅｒｎｅｔ通信ユニット＃γ５３から構成される。 In FIG. 3, PLC # γ51 is PLC-B type composed of built-in p... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 260,901 | （５）支線フラグは、そのオブジェクトがネットワークの支線であるかを示す。 (5) branch flag indicates whether the object is a branch of the network. 構成エディタでは、ネットワークをネットワーク幹線とネットワーク支線に分類して表現する。 In the configuration editor, expressed by classifying the network to the network trunk network branch line. ネットワーク幹線は実体があるもの（すなわちネットワークケーブルとして存在する）、ネットワーク支線は構成図上では存在す... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 260,901 | ＜（１）構成図情報の初期化＞ <(1) initialize the configuration diagram information>
システム構成設計装置１を起動した時に、エディタ管理部７は、ネットワークＡタイプ構成エディタクラスをもとにネットワーク構成エディタＡ２を作成する。 When you start the system configuration design system 1, the editor managing unit 7 creates the network configuration editor A2 based on network A type configuration editor clas... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 260,901 | エディタＩＤ、 Editor ID,
ビットマップイメージを配置した場所の座標情報（以降では、座標情報と呼称する）、 Coordinate information of the location in which to place the bitmap image (and later, referred to as coordinate information),
エディタ管理部７より取得したオブジェクトＩＤ、 Acquired object ID from the editor management unit 7, |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 260,901 | 図２０は、更新されたエディタ情報データベース９を示す。 Figure 20 shows the editor information database 9 that has been updated. これにより、システム構成設計装置１でＰＬＣ−Ｂタイプ用の情報ファイルおよび構成エディタを使用できるようにする。 Thus, to be able to use the information file and the configuration editor for PLC-B type in the system configuration design apparatus 1.
図２１（Ｓ５０１〜Ｓ５０８）を参照して説明する。 R... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 260,901 | 図２５、図２６を参照して実施の形態２を説明する。 Figure 25, illustrating a second embodiment with reference to FIG. 26. 実施の形態２は、システム構成設計装置１をコンピュータで実現する具体的な実施形態を示す。 Embodiment 2 shows a specific embodiment for implementing the system configuration design apparatus 1 on a computer.
図２５は、システム構成設計装置１の外観の一例を示す図である。 Figure 25 is a diagram showing a... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 260,901 | 前記システム構成管理部は、 The system configuration management unit,
前記ネットワーク構成エディタと前記機器構成エディタとによって編集されたネットワークと機器とからなる前記制御システムの実機における接続関係を示す接続関係情報を、前記構成図情報と分離して管理することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のシステム構成設計装置。 The connection relationship information indicating the connection relationship in real machine the control system including a network ... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 219,003 | 本発明は、例えば、広い範囲でありながらコントラスト比が高い画像を得る場合に適用して好適な信号処理装置、信号処理方法、プログラム及び記録媒体に関する。 The present invention is, for example, a suitable signal processing apparatus applied to a case of obtaining an image contrast ratio is high while a broad range, a signal processing method, a program, and a recording medium.
従来、風景等を広画角で撮像するため、例え... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 219,003 | 特許文献３には、第１の画像データ列（低解像度かつ高フレームレートの画像データ列）と第２の画像データ列（高解像度かつ低フレームレートの画像データ列）が同一の範囲となるように撮像する技術について開示されている。 Patent Document 3, so that a first image data stream (low resolution and image data column in the high frame rate) a second image data sequence (image data sequence of high resolution and low frame rate) is the same ... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 219,003 | 例えば、ＤＲＣ（Digital Reality Creation：登録商標）のように、様々な処理で劣化した低解像度の画像であっても高解像度の画像に変換する処理が存在する。 For example, DRC: as (Digital Reality Creation registered trademark), the process of converting the high resolution image exists even at a low resolution image that is deteriorated by various processes. しかし、ＤＲＣを使っても、得られる高解像度の帯域には限度がある... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 219,003 | 本例の画像処理システム１では、撮像した画像に応じて第１のカメラ２と第２のカメラ３ａ〜３ｃの撮像の仕方を変更する。 In the image processing system 1 of the present embodiment, to change the manner of imaging of the first camera 2 and second cameras 3a~3c in accordance with the image captured. 例えば、信号処理装置１０は、第１の画像５と第２の画像６ａ〜６ｃの輝度分布、色分布に応じてカメラパラメータを変更する。 For example, the signal pr... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 219,003 | 本例では、第１のカメラ２のカメラパラメータに関する情報を「共通情報」としている。 In this example, the information related to the camera parameter of the first camera 2 is "common information". 共通情報とは第１のカメラ２と第２のカメラ３ａ〜３ｃの全体で基準となる情報であり、主に、第１のカメラ２に対する第２のカメラ３ａ〜３ｃの違いを示す。 The common information is an overall as a reference the information of the first camera 2 and ... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 219,003 | 本例では、暗い室内から明るい屋外を撮像する場合に見える被写体３１について説明する。 The present embodiment illustrates the object 31 which is visible when imaging a bright outdoor from dark room. 被写体３１には、暗い屋内領域３２と、明るい屋外領域３３が含まれる。 The object 31, a dark indoor area 32 includes a bright outdoor area 33. 屋内領域３２には、例えば窓枠３２ａ〜３２ｃがある。 The indoor area 32, for example, a... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 219,003 | 図２４（ｃ）は、第２のカメラ３ｂの画角５２ｂと撮像可能・不能領域の例を示す。 Figure 24 (c) shows an example of angle 52b and imageable-disabled area of the second camera 3b.
各画角５１，５２ａ，５２ｂ内に含まれる被写体の画像は、上述した図１８に示した画角における被写体の画像に等しい。 Each angle 51,52A, subject images contained in 52b is equal to the image of the subject in the angle of view of FIG. 18 descri... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 219,003 | 前記被写体の周波数分布を求めて、前記第１及び第２のカメラで撮像可能な周波数領域から前記撮像不能領域を検出し、前記カメラパラメータにズーム率を変える情報を含ませるズーム率演算部を備える 信号処理装置。 Seeking the frequency distribution of the object, comprising the first and second camera detects the imaging impossible region from an imageable frequency range, the zoom rate calculating portion to include information t... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 273,021 | 2006-04-19 Publication of JP3768937B2 publication Critical patent/JP3768937B2/en
本発明は、カーボンファイバーを用いた電子放出素子、電子源、画像表示装置、該電子放出素子の製造方法及び該電子放出素子を用いた電子源ならびに画像表示装置の製造方法に関する。 The present invention, an electron emission device using a carbon fiber, electron source, image display device, a method of manufacturing an electron sour... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 273,021 | そこで、本発明の電子放出素子の製造方法は、基板上に配置された、触媒粒子を介して成長させた複数のカーボンファイバーを備える電子放出素子の製造方法であって、触媒を備える基板が内部に配置された反応容器を用意し、該反応容器内の温度が室温または室温近傍である間に水素ガスと炭化水素ガスとを導入し、前記反応容器内の温度を室温または室温近傍から上昇させることによって、 前記触媒を微粒子化するとともに、各々がファイバーの軸方向に積層された複数のグラフェンを含んでおり、直径の平均が１０ｎｍ以上から１００ｎｍ以下の範囲内にあって、直径分布の標準偏差が、前記直径の平均の３０％以下である複数のカーボンファイバーを成長させることを特徴とする。 Internal... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 273,021 | また、反応容器に炭化水素ガスと、水素ガスを導入する前に、不活性ガスを導入し、反応容器内の圧力を、５×１．３３３×１０ ２ Ｐａ以上から１０００×１．３３３×１０ ２ Ｐａ以下の範囲に満たしても良い。 Further, a hydrocarbon gas into the reaction vessel, prior to introduction of the hydrogen gas, an inert gas is introduced, the pressure in the reaction vessel, 5 × 1.333 1000 × from × 10 2 Pa or more 1.333 × 10 2 Pa may... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 273,021 | また、本発明の電子放出装置においては、図８などに示したように、陰極電極２０３とゲート電極２０２との間隙の距離をｄ、電子放出素子を駆動したときの電位差（陰極電極２０３とゲート電極２０２間の電圧）をＶｆ、アノード電極と素子が配置された基板１表面との距離をＨ、アノード電極と陰極電極２０３との電位差をＶｂとした時、駆動時の電界（横方向電界）：Ｅ１＝Ｖｆ／ｄは、アノード−カソード間の電界（縦方向電界）：Ｅ２＝Ｖａ／Ｈの１倍以上５０倍以下に設定される。 In the electron-emitting device of the present invention, as shown in FIG. 8 or the like, and the... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 273,021 | 様々な条件を変化させて調べた結果、カーボンファイバーの直径が、その標準偏差が、直径の平均値の３０％以下、より好ましくは１５％以下であれば、安定した電子放出特性が得られるということが分かった。 That results of examination by varying various conditions, the diameter of the carbon fiber, its standard deviation, more than 30% of the average diameter, more preferably not more than 15%, stable electron emission characte... |
c4-en.tfrecord-00457-of-11264.json | 273,021 | 【図６】本発明に係る電子放出素子の製造方法の一実施形態によって作成したグラファイトナノファイバーの集合の直径分布を示す図である。 6 is a diagram illustrating the diameter distribution of the set of graphite nanofibers prepared according to one embodiment of the method of manufacturing an electron-emitting device according to the present invention.
【図７】本発明の電子放出素子における上視図（図７の（ａ））及び断面図（... |
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